Zewnętrzne identyfikatory
WoS ResearcherID | BRAK |
ORCID | BRAK |
Scopus ID | BRAK |
Historia zatrudnienia
Universite de Lyon | zatrudniony do dnia dzisiejszego |
Trzy ostatnio wprowadzone artykuły autora (3)
Influence of a back side dielectric mirror on thin film silicon solar cells performance / Krystian Cieślak, Alain Fave, Mustapha Lemiti // Optica Applicata.- 2019, vol. 49, nr 1, s. 151-159 [MNiSW: 40]
Wpływ tylnego lustra dielektrycznego na działanie krzemowych, cienkowarstwowych ogniw słonecznych otrzymanych metodą epitaksji z fazy gazowej / Krystian Cieślak, Alain Fave, Mustapha Lemiti // Czasopismo Inżynierii Lądowej, Środowiska i Architektury = Journal of Civil Engineering, Environment and Architecture.- 2016, vol. 63, nr 4, s. 71-77 [MNiSW: 9]
Trzy ostatnio wprowadzone fragmenty książek autora (1)
Silicon-on-insulator thin films grown by liquid phase epitaxy / Iwona Jóźwik, Jan Marian Olchowik, Jed Kraiem, Alain Fave. [W]: Nanostructured and Advanced Materials for Applications in Sensor, Optoelectronic and Photovoltaic Technology.- 2005, s. 347-350
Jeżeli ta strona zawiera nieaktualne, błędne lub niekompletne dane prosimy o kontakt pod adresem oab@pollub.pl