Zewnętrzne identyfikatory
| WoS ResearcherID | BRAK |
| ORCID | BRAK |
| Scopus ID | BRAK |
Historia zatrudnienia
| Al.-Farabi Kazakh National University, Almaty, Kazakhstan | zatrudniony do dnia dzisiejszego |
Trzy ostatnio wprowadzone fragmenty książek autora (1)
Thin films of SiO2 ion-implanted with Sn : evaluation of structure and composition / F. F. Komarov, L. Vlasukova, O. Milchanin, M. Makhavikou, I. Parkhomenko, E. Wendler, W. Wesch, G. Ismailova, Marek Opielak. [W]: 5th International Conference on Radiation Interaction with Materials: Fundamentals and Applications 2014 : book of abstracts.- 2014, s. 385-388
Jeżeli ta strona zawiera nieaktualne, błędne lub niekompletne dane prosimy o kontakt pod adresem oab@pollub.pl