Zgadzam się
Nasza strona zapisuje niewielkie pliki tekstowe, nazywane ciasteczkami (ang. cookies) na Twoim urządzeniu w celu lepszego dostosowania treści oraz dla celów statystycznych. Możesz wyłączyć możliwość ich zapisu, zmieniając ustawienia Twojej przeglądarki. Korzystanie z naszej strony bez zmiany ustawień oznacza zgodę na przechowywanie cookies w Twoim urządzeniu.
This paper describes the construction, fabrication and properties of large-area ultra violet detector that is transparent in the visible range. The device was made on n-type 4H SiC substrate with a double epitaxial layer in which aluminum was implanted to form a p-n junction close to the surface, and a SiO2 layer was formed for passivation, without a guard ring. The design of the top and bottom electrodes of 4mm diameter UV sensitive area allows not less than 20% visible range transmission. This transmission was measured across sensitive area of examined devices and was only 5% lower than that of the substrate before implantation and electrodes deposition.
