Informacja o cookies

Zgadzam się Nasza strona zapisuje niewielkie pliki tekstowe, nazywane ciasteczkami (ang. cookies) na Twoim urządzeniu w celu lepszego dostosowania treści oraz dla celów statystycznych. Możesz wyłączyć możliwość ich zapisu, zmieniając ustawienia Twojej przeglądarki. Korzystanie z naszej strony bez zmiany ustawień oznacza zgodę na przechowywanie cookies w Twoim urządzeniu.

Publikacje Pracowników Politechniki Lubelskiej

Publikacje Pracowników PL z lat 1990-2010

Publikacje pracowników Politechniki Lubelskie z lat 1990-2010 dostępne są jak dotychczas w starej bazie publikacji
LINK DO STAREJ BAZY

Status:
Autorzy: Fedotov Aleksander K., Korolik Olga V., Mazanik Aleksander V. , Kołtunowicz Tomasz, Żukowski Paweł
Rok wydania: 2011
Wersja dokumentu: Drukowana | Elektroniczna
Język: angielski
Numer czasopisma: 1
Wolumen/Tom: 120
Strony: 108 - 110
Web of Science® Times Cited: 2
Scopus® Cytowania: 3
Bazy: Web of Science | Scopus
Efekt badań statutowych NIE
Materiał konferencyjny: NIE
Publikacja OA: NIE
Abstrakty: polski
The main goal of this work is to establish the influence of annealing on the properties of Cs-Si wafers previously subjected to the hydrogen ion-beam treatment at 25 or 300-350 degrees C. It is demonstrated by the conducted study that, despite similarity in the effects of the hydrogen ion-beam treatment at different temperatures on some electrical properties of the wafers (photovoltage spectra, thermoelectromotive force sign), thermal stability of changes in these properties due to the hydrogen ion-beam treatment depends on the hydrogenation temperature.