Informacja o cookies

Zgadzam się Nasza strona zapisuje niewielkie pliki tekstowe, nazywane ciasteczkami (ang. cookies) na Twoim urządzeniu w celu lepszego dostosowania treści oraz dla celów statystycznych. Możesz wyłączyć możliwość ich zapisu, zmieniając ustawienia Twojej przeglądarki. Korzystanie z naszej strony bez zmiany ustawień oznacza zgodę na przechowywanie cookies w Twoim urządzeniu.

Publikacje Pracowników Politechniki Lubelskiej

Status:
Autorzy: Poklonski Nikolai Alexandrovich, Gorbachuk Nikolay I., Tarasik Maria I., Shpakovski Sergey V., Filipenia Victor A., Skuratov Vladimir A., Kołtunowicz Tomasz, Wieck Andreas D.
Rok wydania: 2011
Wersja dokumentu: Drukowana | Elektroniczna
Język: angielski
Numer czasopisma: 1
Wolumen/Tom: 120
Strony: 111 - 114
Impact Factor: 0,444
Web of Science® Times Cited: 3
Scopus® Cytowania: 3
Bazy: Web of Science | Scopus
Efekt badań statutowych NIE
Materiał konferencyjny: NIE
Publikacja OA: NIE
Abstrakty: polski
The diodes manufactured on the wafers of single-crystalline silicon uniformly doped with phosphorus are studied. The wafer resistivity was 90 Omega cm. Krypton ions are implanted to the side of the p(+)-region of diodes (energy 107 MeV, fluence Phi from 5 x 10(7) to 4 x 10(9) cm(-2)). It is shown that recovery charge Q(Gamma Gamma) is inversely proportional to the square root of the irradiation fluence value Phi. When the fluence increases, the part of the recovery charge Q(Gamma Gamma A) due to the high reverse conductance phase, decreases faster than the value Q(Gamma Gamma).