Zgadzam się
Nasza strona zapisuje niewielkie pliki tekstowe, nazywane ciasteczkami (ang. cookies) na Twoim urządzeniu w celu lepszego dostosowania treści oraz dla celów statystycznych. Możesz wyłączyć możliwość ich zapisu, zmieniając ustawienia Twojej przeglądarki. Korzystanie z naszej strony bez zmiany ustawień oznacza zgodę na przechowywanie cookies w Twoim urządzeniu.
TiO2 thin films were deposited on glass substrates by HiTUS (high target utilization sputtering) technique. Structural studies of TiO2 thin films of different thickness were performed by X-ray diffraction. Refractive index and extinction coefficient were measured by spectroscopic ellipsometer. Transmission spectra of TiO2 thin films were investigated in the temperature interval 77-300 K. The temperature behaviour of Urbach absorption edge for TiO2 thin film was studied. The effect of temperature on the optical parameters and order-disorder processes in TiO2 thin films was analysed.
