Informacja o cookies

Zgadzam się Nasza strona zapisuje niewielkie pliki tekstowe, nazywane ciasteczkami (ang. cookies) na Twoim urządzeniu w celu lepszego dostosowania treści oraz dla celów statystycznych. Możesz wyłączyć możliwość ich zapisu, zmieniając ustawienia Twojej przeglądarki. Korzystanie z naszej strony bez zmiany ustawień oznacza zgodę na przechowywanie cookies w Twoim urządzeniu.

Publikacje Pracowników Politechniki Lubelskiej

Publikacje Pracowników PL z lat 1990-2010

Publikacje pracowników Politechniki Lubelskie z lat 1990-2010 dostępne są jak dotychczas w starej bazie publikacji
LINK DO STAREJ BAZY

Status:
Autorzy: Kobayashi A., Ando Yoshinori, Kurokawa K., Hejwowski Tadeusz
Rok wydania: 2011
Wersja dokumentu: Drukowana | Elektroniczna
Język: angielski
Numer czasopisma: 10
Wolumen/Tom: 11
Strony: 8853 - 8858
Web of Science® Times Cited: 3
Scopus® Cytowania: 3
Bazy: Web of Science | Scopus
Efekt badań statutowych NIE
Materiał konferencyjny: NIE
Publikacja OA: NIE
Abstrakty: angielski
In thermal barrier coatings (TBC), failure occurs near or at the interface between the metallic bondcoat and topcoat. On high temperature conditions, an oxide scale which is named thermally grown oxide (TGO) occurs along the bond/topcoat interface. For diminishing the creation of TGO, a dense coating with low residual stress and thermal stress buffer layer was preferable. High hardness ceramic coatings could be obtained by gas tunnel type plasma spraying, and the deposited coating had superior property in comparison with those deposited by conventional type plasma spray method. In this study, the gas tunnel type plasma spraying system was utilized to produce a zirconia/alumina functionally graded thermal barrier coating and discussed its physical and mechanical properties, thermal behavior and high temperature oxidation resistance of the coating are discussed. Consequently, the proposed system exhibited superior mechanical properties and oxidation resistance at the expenses of a slightly lower thermal insulating effect. This interlayer is preferred in order to minimize the detrimental effect of the phase transformation of gamma-Al(2)O(3) to alpha-Al(2)O(3).