Informacja o cookies

Zgadzam się Nasza strona zapisuje niewielkie pliki tekstowe, nazywane ciasteczkami (ang. cookies) na Twoim urządzeniu w celu lepszego dostosowania treści oraz dla celów statystycznych. Możesz wyłączyć możliwość ich zapisu, zmieniając ustawienia Twojej przeglądarki. Korzystanie z naszej strony bez zmiany ustawień oznacza zgodę na przechowywanie cookies w Twoim urządzeniu.

Publikacje Pracowników Politechniki Lubelskiej

Publikacje Pracowników PL z lat 1990-2010

Publikacje pracowników Politechniki Lubelskie z lat 1990-2010 dostępne są jak dotychczas w starej bazie publikacji
LINK DO STAREJ BAZY

Status:
Autorzy: Cieślak Krystian, Gułkowski Sławomir, Olchowik Jan
Rok wydania: 2012
Wersja dokumentu: Drukowana | Elektroniczna
Język: angielski
Numer czasopisma: 3
Wolumen/Tom: 30
Strony: 274 - 277
Web of Science® Times Cited: 0
Scopus® Cytowania: 0
Bazy: Web of Science | Scopus
Efekt badań statutowych NIE
Materiał konferencyjny: NIE
Publikacja OA: NIE
Abstrakty: angielski
This work presents an analysis of the influence of SiO2 dielectric coverage of a Si substrate on the solar-cell efficiency of Si thin layers obtained by epitaxial lateral overgrowth (ELO). The layers were obtained by liquid phase epitaxy (LPE). All experiments were carried out under the following conditions: initial temperature of growth: 1193 K; temperature difference DT = 60 K; ambient gas: Ar; metallic solvent: Sn+Al; cooling rates: 0.5 K/min and 1 K/min. To compare the influence of the interior reflectivity of photons, we used two types of dielectric masks in a shape of a grid etched in SiO2 along the <110> and <112> directions on a p+ boron-doped (111) silicon substrate, where silicon dioxide covered 70 % and 80 % of the silicon surface, respectively. The results obtained in this work depict the correlation between the interior efficiency and percentage of SiO2 coverage of the substrate of the ELO solar cells.