
Analysis of the composition of Ti-based thin films deposited on silicon by means of self-ion assisted deposition
Artykuł w czasopiśmie
Status: | |
Autorzy: | Tashlykov Igor S., Żukowski Paweł, Baraishuk Sergei M., Mikhalkovich Oleg M. |
Rok wydania: | 2007 |
Wersja dokumentu: | Drukowana | Elektroniczna |
Język: | angielski |
Numer czasopisma: | 9 |
Wolumen/Tom: | 162 |
Strony: | 637 - 641 |
Impact Factor: | 0,303 |
Web of Science® Times Cited: | 2 |
Scopus® Cytowania: | 2 |
Bazy: | Web of Science | Scopus |
Efekt badań statutowych | NIE |
Materiał konferencyjny: | NIE |
Publikacja OA: | NIE |
Abstrakty: | angielski |