Composition of Co films/Si substrate systems prepared by means of self-ion assisted deposition and accompanying silicon damage
Artykuł w czasopiśmie
| Status: | |
| Warianty tytułu: |
Skład i uszkodzenia radiacyjne krzemu w strukturach warstwa Co – podłoże krzemowe wytwarzanych w warunkach dynamicznego mieszania jonowego
|
| Autorzy: | Tashlykov Igor S., Żukowski Paweł, Mikhalkovich Oleg M., Ermakov Yuri , Chernysh Vladimi |
| Rok wydania: | 2010 |
| Wersja dokumentu: | Drukowana | Elektroniczna |
| Język: | angielski |
| Numer czasopisma: | 7 |
| Wolumen/Tom: | 86 |
| Strony: | 122 - 124 |
| Impact Factor: | 0,242 |
| Bazy: | BazTech |
| Efekt badań statutowych | NIE |
| Materiał konferencyjny: | NIE |
| Publikacja OA: | NIE |
| Abstrakty: | polski | angielski |
| Skład i uszkodzenia radiacyjne krzemu w strukturach warstwa Co – podłoże krzemowe wytwarzanych w warunkach dynamicznego mieszania jonowego | |
| The composition, radiation damage and morphology of silicon modified by means of self – ion assisted Co deposition was investigated. |
