Silicide formation on silicon by dense compression plasma treatment
Artykuł w czasopiśmie
| Status: | |
| Warianty tytułu: |
Powstawanie krzemków na krzemie pod wpływem działania gęstej plazmy kompresyjnej
|
| Autorzy: | Karwat Czesław, Fedotova Julia A., Żukowski Paweł, Anishchik Viktor M., Uglov Vladimir V., Kvasov Nicolai , Petukhou Yury , Astashynski Valyantin Mironovich, Kuzmitski Anton Mikhailovich, Żukrowski Jan |
| Rok wydania: | 2010 |
| Wersja dokumentu: | Drukowana | Elektroniczna |
| Język: | angielski |
| Numer czasopisma: | 7 |
| Wolumen/Tom: | 86 |
| Strony: | 311 - 313 |
| Impact Factor: | 0,242 |
| Bazy: | BazTech |
| Efekt badań statutowych | NIE |
| Materiał konferencyjny: | NIE |
| Publikacja OA: | NIE |
| Abstrakty: | angielski | polski |
| In the present paper the means of applying compression plasma flows (CPF) for deep metal doping of silicon, formation of single- and multiphase metal silicide as well as submicron silicide structures are discussed. The action of CPF on Fe/Si and Ni/Si systems results in the formation of silicon dendries and metal silicides á-FeSi2 and NiSi, NiSi2 respectively. Metal silicides are preferably localized between the silicon dendrites’ branches. | |
| Prezentowany artykuł omawia zastosowanie strumieniowej plazmy kompresyjnej do głębokiego domieszkowania krzemu metalem oraz powstawanie jedno- i wielofazowych krzemków metali oraz submikroskopowych struktur krzemkowych. Działanie strumieniowej plazmy kompresyjnej na układy Fe/Si oraz Ni/Si powoduje tworzenie się dendrytów krzemowych i krzemków metali odpowiednio - .-FeSi2 i NiSi. |
