Baza Publikacji Pracowników Politechniki Lubelskiej

Status:
Warianty tytułu:	Powstawanie krzemków na krzemie pod wpływem działania gęstej plazmy kompresyjnej
Autorzy:	Karwat Czesław, Fedotova Julia A., Żukowski Paweł, Anishchik Viktor M., Uglov Vladimir V., Kvasov Nicolai , Petukhou Yury , Astashynski Valyantin Mironovich, Kuzmitski Anton Mikhailovich, Żukrowski Jan
Rok wydania:	2010
Wersja dokumentu:	Drukowana \| Elektroniczna
Język:	angielski
Numer czasopisma:	7
Wolumen/Tom:	86
Strony:	311 - 313
Impact Factor:	0,242
Web of Science® Times Cited:	1
Bazy:	Web of Science \| BazTech
Efekt badań statutowych	NIE
Materiał konferencyjny:	NIE
Publikacja OA:	NIE
Abstrakty:	angielski \| polski
	In the present paper the means of applying compression plasma flows (CPF) for deep metal doping of silicon, formation of single- and multiphase metal silicide as well as submicron silicide structures are discussed. The action of CPF on Fe/Si and Ni/Si systems results in the formation of silicon dendries and metal silicides á-FeSi2 and NiSi, NiSi2 respectively. Metal silicides are preferably localized between the silicon dendrites’ branches.
	Prezentowany artykuł omawia zastosowanie strumieniowej plazmy kompresyjnej do głębokiego domieszkowania krzemu metalem oraz powstawanie jedno- i wielofazowych krzemków metali oraz submikroskopowych struktur krzemkowych. Działanie strumieniowej plazmy kompresyjnej na układy Fe/Si oraz Ni/Si powoduje tworzenie się dendrytów krzemowych i krzemków metali odpowiednio - .-FeSi2 i NiSi.

Silicide formation on silicon by dense compression plasma treatment