Informacja o cookies

Zgadzam się Nasza strona zapisuje niewielkie pliki tekstowe, nazywane ciasteczkami (ang. cookies) na Twoim urządzeniu w celu lepszego dostosowania treści oraz dla celów statystycznych. Możesz wyłączyć możliwość ich zapisu, zmieniając ustawienia Twojej przeglądarki. Korzystanie z naszej strony bez zmiany ustawień oznacza zgodę na przechowywanie cookies w Twoim urządzeniu.

Publikacje Pracowników Politechniki Lubelskiej

Status:
Autorzy: Chocyk Dariusz, Zientarski Tomasz
Rok wydania: 2007
Wersja dokumentu: Drukowana | Elektroniczna
Język: angielski
Numer czasopisma: 23-24
Wolumen/Tom: 105
Strony: 3099 - 3107
Web of Science® Times Cited: 5
Scopus® Cytowania: 5
Bazy: Web of Science | Scopus
Efekt badań statutowych NIE
Materiał konferencyjny: NIE
Publikacja OA: NIE
Abstrakty: angielski
A three-dimensional molecular dynamics (MD) simulation is proposed to study the film growth, roughness and stress evolution during atom deposition on the (100) plane of a fcc regular crystal. We use the cubic system with an x-y periodic boundary condition. At the bottom we have an atomic surface and at the top a reflecting wall. The model uses the Lennard-Jones potential to describe the interatomic forces. The simulation results show that the film grows with the Volmer-Weber mode and exhibits specific curve shape of the stress evolution. The mean biaxial stress obtained during the simulation attains a local tension maximum at a coverage of two monolayers. The stress in the normal direction is smaller than the biaxial stress. The main contribution to the stress in the film arises from the first monolayer. The curves describing roughness possess maximum values at the same substrate coverage. The dependence of the roughness on the temperature is examined.