Informacja o cookies

Zgadzam się Nasza strona zapisuje niewielkie pliki tekstowe, nazywane ciasteczkami (ang. cookies) na Twoim urządzeniu w celu lepszego dostosowania treści oraz dla celów statystycznych. Możesz wyłączyć możliwość ich zapisu, zmieniając ustawienia Twojej przeglądarki. Korzystanie z naszej strony bez zmiany ustawień oznacza zgodę na przechowywanie cookies w Twoim urządzeniu.

Publikacje Pracowników Politechniki Lubelskiej

Publikacje Pracowników PL z lat 1990-2010

Publikacje pracowników Politechniki Lubelskie z lat 1990-2010 dostępne są jak dotychczas w starej bazie publikacji
LINK DO STAREJ BAZY

MNiSW
100
Lista 2021
Status:
Autorzy: Ananiashvili Khatia, Okrosashvili Mikheil, Loladze Tamar, Valko Natalia, Kołtunowicz Tomasz
Dyscypliny:
Aby zobaczyć szczegóły należy się zalogować.
Rok wydania: 2020
Wersja dokumentu: Drukowana | Elektroniczna
Język: angielski
Numer czasopisma: 11
Wolumen/Tom: 10
Numer artykułu: 3737
Strony: 1 - 8
Web of Science® Times Cited: 0
Scopus® Cytowania: 0
Bazy: Web of Science | Scopus
Efekt badań statutowych NIE
Finansowanie: This research was funded by Shota Rustaveli National Science Foundation of Georgia (SRNSFG) – PHDF-18-736 “Development of the Technology for Obtaining Functional Coatings on the Special Substrate” and by the Polish Ministry of Science and Higher Education as a Science Fund of the Lublin University of Technology, at the Faculty of Electrical Engineering and Computer Science FN-28/E/EE/2019 “Researches of electrical, magnetic, thermal and mechanical properties of modern electrotechnical and electronic materials, including nanomaterials and diagnostic of electrical devices and their components”.
Materiał konferencyjny: NIE
Publikacja OA: TAK
Licencja:
Sposób udostępnienia: Witryna wydawcy
Wersja tekstu: Ostateczna wersja opublikowana
Czas opublikowania: W momencie opublikowania
Data opublikowania w OA: 28 maja 2020
Abstrakty: angielski
The paper deals with the study of the structure and properties of tantalum coatings formed by electron beam evaporation and deposition of tantalum powder on 300–450 °C aluminum substrate. The research results of surface morphology, phase and elemental composition show that high activity of an aluminum substrate and specific conditions for vapor-phase technology promote formation of tantalum coatings characterized by a high degree of crystalline grains, with high adhesion and hardness despite the surface cracks. It was observed that the optimum deposition temperature of tantalum on aluminum substrates varies from 300 °C to 350 °C. These coatings demonstrate excellent physical and mechanical properties due to formation of intermetallic phases in the reactive zone.