Informacja o cookies

Zgadzam się Nasza strona zapisuje niewielkie pliki tekstowe, nazywane ciasteczkami (ang. cookies) na Twoim urządzeniu w celu lepszego dostosowania treści oraz dla celów statystycznych. Możesz wyłączyć możliwość ich zapisu, zmieniając ustawienia Twojej przeglądarki. Korzystanie z naszej strony bez zmiany ustawień oznacza zgodę na przechowywanie cookies w Twoim urządzeniu.

Publikacje Pracowników Politechniki Lubelskiej

Publikacje Pracowników PL z lat 1990-2010

Publikacje pracowników Politechniki Lubelskie z lat 1990-2010 dostępne są jak dotychczas w starej bazie publikacji
LINK DO STAREJ BAZY

Status:
Autorzy: Bojko E. B., Karwat Czesław, Kiszczak Krzysztof, Kolasik Mariusz, Kołtunowicz Tomasz, Komarov Fadei F., Komarov Aleksandr F., Żukowski Paweł, Kozak Czesław, Wdowiak Artur
Rok wydania: 2005
Wersja dokumentu: Drukowana | Elektroniczna
Język: angielski
Numer czasopisma: 2-4
Wolumen/Tom: 78
Strony: 241 - 245
Web of Science® Times Cited: 4
Scopus® Cytowania: 4
Bazy: Web of Science | Scopus
Efekt badań statutowych NIE
Materiał konferencyjny: NIE
Publikacja OA: NIE
Abstrakty: angielski
A unique approach and a single-ion-beam experimental setup for in situ ion implantation combined with the deposition of various materials, ion-beam mixing and sample surface cleaning are suggested. Rutherford backscattering (RBS) and Auger electron spectroscopy (AES) have been used to measure the radial and depth distributions of deposited/implanted atoms as well as the spatial distribution of sputtered atoms. Two-component and three-component materials have been deposited on the copper samples. Experimental data for the depth profiles of deposited/implanted atoms and for the thickness of films applied are also reported. The variation of the film thickness, the uniformity of the film, and the efficiency of mixing in the film–substrate system are discussed based on the experimental data.