Informacja o cookies

Zgadzam się Nasza strona zapisuje niewielkie pliki tekstowe, nazywane ciasteczkami (ang. cookies) na Twoim urządzeniu w celu lepszego dostosowania treści oraz dla celów statystycznych. Możesz wyłączyć możliwość ich zapisu, zmieniając ustawienia Twojej przeglądarki. Korzystanie z naszej strony bez zmiany ustawień oznacza zgodę na przechowywanie cookies w Twoim urządzeniu.

Publikacje Pracowników Politechniki Lubelskiej

Status:
Autorzy: Prószyński Adam, Chocyk Dariusz, Gładyszewski Grzegorz, Pieńkos Tomasz, Gładyszewski Longin
Rok wydania: 2005
Wersja dokumentu: Drukowana | Elektroniczna
Język: angielski
Numer czasopisma: 3
Wolumen/Tom: 35
Strony: 517 - 522
Impact Factor: 0,459
Efekt badań statutowych NIE
Materiał konferencyjny: NIE
Publikacja OA: NIE
Abstrakty: angielski
Stress measurements of 23 nm copper films and 93 nm silver films on Si (100) have been performed during thermal cycling between RT and 450°C. The changes in stress versus temperature are interpreted. The effects of treatment on microstructure and composition are studied by X-ray diffraction.