Effect of Cu Negative Ion Implantation on Physical Properties of Zn 1- x Mn x Te Films
Artykuł w czasopiśmie
Status: | |
Autorzy: | Pogrebnjak Alexander D., Shypylenko Andrey P., Amekura Hiroshi, Takeda Yoshihiko, Opanasyuk Anatoliy S., Kurbatov D.I. , Kolotova I.A. , Klymov O.V., Kozak Czesław |
Rok wydania: | 2013 |
Wersja dokumentu: | Drukowana | Elektroniczna |
Język: | angielski |
Numer czasopisma: | 5 |
Wolumen/Tom: | 123 |
Strony: | 939 - 942 |
Impact Factor: | 0,604 |
Web of Science® Times Cited: | 5 |
Scopus® Cytowania: | 6 |
Bazy: | Web of Science | Scopus |
Efekt badań statutowych | NIE |
Materiał konferencyjny: | NIE |
Publikacja OA: | TAK |
Licencja: | |
Sposób udostępnienia: | Witryna wydawcy |
Wersja tekstu: | Ostateczna wersja opublikowana |
Czas opublikowania: | W momencie opublikowania |
Abstrakty: | angielski |
The paper deals with the investigations of structural properties of Zn 1- x Mn x Te lms, which were fabricated under various deposition conditions using the thermal evap oration metho d in a closed volume. The surface morphology of the samples was studied, the phase analysis of their structures was performed, the elemental analysis of the films and the crystal lattice constant were investigated. The texture perfection of the films before and after copper ion implantation was evaluated |