Zgadzam się
Nasza strona zapisuje niewielkie pliki tekstowe, nazywane ciasteczkami (ang. cookies) na Twoim urządzeniu w celu lepszego dostosowania treści oraz dla celów statystycznych. Możesz wyłączyć możliwość ich zapisu, zmieniając ustawienia Twojej przeglądarki. Korzystanie z naszej strony bez zmiany ustawień oznacza zgodę na przechowywanie cookies w Twoim urządzeniu.
The publication of the paper is supported by the “Excellence in Science” program of the Polish Ministry of Education and Science (Międzynarodowa Konferencja “Implantacja jonowa i inne zastosowania jonów i elektronów
ION’2020” )
A new approach to application the internal evaporator in an arc discharge ion source is presented, namely a cru-
cible with a plug made of feeding substance. This solution is suitable especially for high-melting point metallic
feeding substances. The ion source was tested using Ni and Cr. Basic ion source characteristics, i.e. dependences of
ion current and discharge voltage on discharge and filament currents as well as on the external magnetic field flux
density are shown and discussed in order to find optimal working conditions. The maximal ion currents were 18 mA
for Ni+ and 38 mA for Cr+. The stability of the ion current was also tested. It was proven that ion source is able to
provide intense ion beam current long enough to perform irradiations with the fluence of ~5×1015 cm-2 confirming
the usefulness of the design for ion implantation purposes.
