Informacja o cookies

Zgadzam się Nasza strona zapisuje niewielkie pliki tekstowe, nazywane ciasteczkami (ang. cookies) na Twoim urządzeniu w celu lepszego dostosowania treści oraz dla celów statystycznych. Możesz wyłączyć możliwość ich zapisu, zmieniając ustawienia Twojej przeglądarki. Korzystanie z naszej strony bez zmiany ustawień oznacza zgodę na przechowywanie cookies w Twoim urządzeniu.

Publikacje Pracowników Politechniki Lubelskiej

Publikacje Pracowników PL z lat 1990-2010

Publikacje pracowników Politechniki Lubelskie z lat 1990-2010 dostępne są jak dotychczas w starej bazie publikacji
LINK DO STAREJ BAZY

MNiSW
100
Lista 2021
Status:
Autorzy: Turek Marcin, Droździel Andrzej, Pyszniak Krzysztof, Filiks Janusz, Węgierek Paweł
Dyscypliny:
Aby zobaczyć szczegóły należy się zalogować.
Rok wydania: 2022
Wersja dokumentu: Drukowana | Elektroniczna
Język: angielski
Numer czasopisma: 5
Wolumen/Tom: 16
Strony: 20 - 27
Scopus® Cytowania: 0
Bazy: Scopus
Efekt badań statutowych NIE
Finansowanie: The publication of the paper is supported by the “Excellence in Science” program of the Polish Ministry of Education and Science (Międzynarodowa Konferencja “Implantacja jonowa i inne zastosowania jonów i elektronów ION’2020” )
Materiał konferencyjny: NIE
Publikacja OA: TAK
Licencja:
Sposób udostępnienia: Otwarte czasopismo
Wersja tekstu: Ostateczna wersja opublikowana
Czas opublikowania: W momencie opublikowania
Data opublikowania w OA: 1 listopada 2022
Abstrakty: angielski
A new approach to application the internal evaporator in an arc discharge ion source is presented, namely a cru- cible with a plug made of feeding substance. This solution is suitable especially for high-melting point metallic feeding substances. The ion source was tested using Ni and Cr. Basic ion source characteristics, i.e. dependences of ion current and discharge voltage on discharge and filament currents as well as on the external magnetic field flux density are shown and discussed in order to find optimal working conditions. The maximal ion currents were 18 mA for Ni+ and 38 mA for Cr+. The stability of the ion current was also tested. It was proven that ion source is able to provide intense ion beam current long enough to perform irradiations with the fluence of ~5×1015 cm-2 confirming the usefulness of the design for ion implantation purposes.