Informacja o cookies

Zgadzam się Nasza strona zapisuje niewielkie pliki tekstowe, nazywane ciasteczkami (ang. cookies) na Twoim urządzeniu w celu lepszego dostosowania treści oraz dla celów statystycznych. Możesz wyłączyć możliwość ich zapisu, zmieniając ustawienia Twojej przeglądarki. Korzystanie z naszej strony bez zmiany ustawień oznacza zgodę na przechowywanie cookies w Twoim urządzeniu.

Publikacje Pracowników Politechniki Lubelskiej

MNiSW
10
Lista B
Status:
Autorzy: Gułkowski Sławomir
Rok wydania: 2015
Wersja dokumentu: Drukowana | Elektroniczna
Język: angielski
Numer czasopisma: 1
Wolumen/Tom: 19
Strony: 15 - 23
Bazy: INSPEC | BazTech
Efekt badań statutowych NIE
Materiał konferencyjny: NIE
Publikacja OA: TAK
Licencja:
Sposób udostępnienia: Witryna wydawcy
Wersja tekstu: Ostateczna wersja opublikowana
Czas opublikowania: Po opublikowaniu
Abstrakty: angielski
Due to the possibility of producing high quality and low cost silicon substrates the Epitaxial Lateral Overgrowth technology may find its application in the photovoltaic industry. However, a lateral growth process depends on many technological parameters such as the temperature of the system, the cooling rate, the solvent or the geometry of the mask. For this reason finding optimized settings for these factors in experiment al research is difficult and time consuming. Numerical analysis of the growth process leads to better u nderstanding of the fundamentals of the growth process. For this reason a computational model of the pitaxial growth was proposed. This paper focuses on the accuracy of the numerical solution of the mass transport process during epitaxial growth. The method was implemented in the Matlab environment for the moving boundary application. The results of the calculations are presented.