Characterization of ZnO:Al layers for applications in thin film solar cells
Artykuł w czasopiśmie
MNiSW
15
Lista A
Status: | |
Autorzy: | Zdyb Agata, Krawczak Ewelina, Lichograj Piotr |
Rok wydania: | 2016 |
Wersja dokumentu: | Drukowana | Elektroniczna |
Język: | angielski |
Numer czasopisma: | 2 |
Wolumen/Tom: | 46 |
Strony: | 181 - 185 |
Impact Factor: | 0,641 |
Web of Science® Times Cited: | 6 |
Scopus® Cytowania: | 5 |
Bazy: | Web of Science | Scopus | Web of Science Core Collection | Chemical Abstracts | Compendex | Current Contents | Inspec | Referativnyj Zhurnal | Sci Expanded | Urlicus Periodicals Directory | |
Efekt badań statutowych | NIE |
Materiał konferencyjny: | NIE |
Publikacja OA: | TAK |
Licencja: | |
Sposób udostępnienia: | Witryna wydawcy |
Wersja tekstu: | Ostateczna wersja opublikowana |
Czas opublikowania: | W momencie opublikowania |
Abstrakty: | angielski |
Thin films of zinc oxide doped with aluminium were obtained by using the magnetron sputtering technique on glass substrates. The changes in magnetron power influence the structural, optical and electrical properties of the ZnO:Al layers. The deposited films are characterized by very good homogeneity and high optical transmission. Thicke r films with larger agglomerates on the surface exhibit lower resistivity with the remaining good transparency. |