Zgadzam się
Nasza strona zapisuje niewielkie pliki tekstowe, nazywane ciasteczkami (ang. cookies) na Twoim urządzeniu w celu lepszego dostosowania treści oraz dla celów statystycznych. Możesz wyłączyć możliwość ich zapisu, zmieniając ustawienia Twojej przeglądarki. Korzystanie z naszej strony bez zmiany ustawień oznacza zgodę na przechowywanie cookies w Twoim urządzeniu.
A new method of refractory metal (like Mo and Ta) ion beam production using the arc discharge ion source
and CCl2F2
(dichlorodifluoromethane) used as a feeding gas supported into the discharge chamber is presented. It
is based on etching of the refractory metal parts (e.g. anode or a dedicated tube) Cl and F containing plasma. The
results of measurements of the dependences of ion currents on the working parameters like discharge and filament
currents as well as on the magnetic field flux density of an external electromagnet coil are shown and discussed.
The separated Mo
+
and Ta
+
beam currents of approximately
22
μ
A and
2
μ
A, respectively, were obtained.
