Influence of sputtering deposition parameters on electrical and optical properties of aluminium-doped zinc oxide thin films for photovoltaic applications
Materiały konferencyjne
MNiSW
15
WOS
Status: | |
Autorzy: | Krawczak Ewelina, Zdyb Agata, Gułkowski Sławomir, Fave Alain, Fourmond Erwann |
Dyscypliny: | |
Aby zobaczyć szczegóły należy się zalogować. | |
Rok wydania: | 2017 |
Wersja dokumentu: | Drukowana | Elektroniczna |
Język: | angielski |
Wolumen/Tom: | 22 |
Strony: | 1 - 7 |
Web of Science® Times Cited: | 2 |
Scopus® Cytowania: | 4 |
Bazy: | Web of Science | Scopus | Chemical Abstracts (CAS) | DOAJ Directory of Open Access Journals | Web of Science Core Collection |
Efekt badań statutowych | NIE |
Materiał konferencyjny: | TAK |
Nazwa konferencji: | International Conference on Advances in Energy Systems and Environmental Engineering (ASEE17) |
Skrócona nazwa konferencji: | ASEE17 |
URL serii konferencji: | LINK |
Termin konferencji: | 2 lipca 2017 do 5 lipca 2017 |
Miasto konferencji: | Wrocław |
Państwo konferencji: | POLSKA |
Publikacja OA: | TAK |
Licencja: | |
Sposób udostępnienia: | Otwarte czasopismo |
Wersja tekstu: | Ostateczna wersja opublikowana |
Czas opublikowania: | W momencie opublikowania |
Data opublikowania w OA: | 7 listopada 2017 |
Abstrakty: | angielski |
Transparent Conductive Oxides (TCOs) characterized by high visible transmittance and low electrical resistivity play an important role in photovoltaic technology. Aluminum doped zinc oxide (AZO) is one of the TCOs that can find its application in thin film solar cells (CIGS or CdTe PV technology) as well as in other microelectronic applications. In this paper some optical and electrical properties of ZnO:Al thin films deposited by RF magnetron sputtering method have been investigated. AZO layers have been deposited on the soda lime glass substrates with use of variable technological parameters such as pressure in the deposition chamber, power applied and temperature during the process. The composition of AZO films has been investigated by EDS method. Thickness and refraction index of the deposited layers in dependence on certain technological parameters of sputtering process have been determined by spectroscopic ellipsometry. The measurements of transmittance and sheet resistance were also performed. |