Informacja o cookies

Zgadzam się Nasza strona zapisuje niewielkie pliki tekstowe, nazywane ciasteczkami (ang. cookies) na Twoim urządzeniu w celu lepszego dostosowania treści oraz dla celów statystycznych. Możesz wyłączyć możliwość ich zapisu, zmieniając ustawienia Twojej przeglądarki. Korzystanie z naszej strony bez zmiany ustawień oznacza zgodę na przechowywanie cookies w Twoim urządzeniu.

Publikacje Pracowników Politechniki Lubelskiej

MNiSW
13
Lista B
Status:
Warianty tytułu:
Dobór parametrów laserowego teksturowania powierzchni stopu tytanu
Autorzy: Krzywicka Monika , Tofil Szymon, Pałka Krzysztof
Dyscypliny:
Aby zobaczyć szczegóły należy się zalogować.
Rok wydania: 2018
Wersja dokumentu: Drukowana | Elektroniczna
Język: angielski
Wolumen/Tom: 12
Strony: 167 - 172
Bazy: BazTech | Index Copernicus | Google Scholar
Efekt badań statutowych NIE
Materiał konferencyjny: NIE
Publikacja OA: TAK
Licencja:
Sposób udostępnienia: Otwarte czasopismo
Wersja tekstu: Ostateczna wersja opublikowana
Czas opublikowania: W momencie opublikowania
Data opublikowania w OA: 20 grudnia 2018
Abstrakty: polski | angielski
W pracy przedstawiono metodę doboru parametrów mikroobróbki laserowej zapewniającą ablacyjne usuwanie materiału. W eksperymencie zastosowany został laser generujący wiązkę promieniowania ultrafioletowego w impulsach pikosekundowych z częstotliwością do 400 kHz. Jakość wytworzonych śladów została oceniona metodą elektronowej mikroskopii skaningowej. Na podstawie przeprowadzonej analizy rekomenduje się prowadzenie mikroobróbki przy częstotliwości 100 kHz i czasie oddziaływania impulsów lasera od 62, 5 ms do 125 ms
This paper shows a parameters selection method providing an ablative laser treatment removal of materials. A laser for generating laser beams of ultraviolet light in picosecond pulses at a frequency to 400 kHz was used in the experiment. The quality of the marks was examined by scanning electron microscopy. On the basis of the analysis, it is recommended to conduct micromachining at a frequency of 100 kHz and exposure times within the range of 62.5 ms to 125 ms.