National University of Science and Technology "MISiS" (NUST "MISiS"), Moscow
Artykuły z 2019 (1)
1. High-Rate High-Density ICP Etching of Germanium / P. B. Lagov, V. M. Maslovsky, Yu S. Pavlov, E. S. Rogovsky, A. S. Drenin & V. A. Bondariev // High Temperature Material Processes.- 2019, vol. 23, nr 1, s. 57-70 [MNiSW: 20]
Jeżeli ta strona zawiera nieaktualne, błędne lub niekompletne dane prosimy o kontakt pod adresem oab@pollub.pl